Moly Metal Sputtering Target

Høj renhed, høj densitet, kornstørrelse, krystalorientering, termisk ledningsevne og elektrisk ledningsevne

(1) Jo højere renhed molybdænmålet er, jo bedre ydeevne har den sputterede film. Generelt skal renheden af ​​molybdænforstøvningsmål være mindst 99,95 %.

(2) Under sputterbelægningsprocessen, når sputtermålet med lav densitet bombarderes, frigives gassen i porerne inde i målet pludselig, hvilket resulterer i, at målpartikler eller mikropartikler sprøjter i stor skala, eller efter at filmen er dannet, film bliver bombarderet af sekundære elektroner for at danne mikropartikler, der sprøjter. Udseendet af disse partikler vil reducere kvaliteten af ​​filmen. For at reducere porerne i målfaststoffet og forbedre filmens ydeevne kræves det generelt, at sputtermålet har en højere densitet. For molybdænforstøvningsmål skal dens relative tæthed være over 98 %.

(3) Generelt er molybdænforstøvningsmål en polykrystallinsk struktur, og kornstørrelsen kan variere fra mikrometer til millimeter. Sputteringshastigheden for finskala-mål er hurtigere end for grove korn, og tykkelsesfordelingen af ​​den aflejrede film er mere ensartet for mål med mindre kornstørrelsesforskelle.

1. Vi vil gøre vores bedste for at besvare vores kunders anmodninger inden for 24 timer.

2. Vi vil opretholde en effektiv og effektiv kommunikation med vores kunder.

3. Vi leverer førsteklasses kvalitetskontrol og eftersalgsservice.

Vi kan give dig gratis prøver, manualer, laboratorietestrapporter, industrirapporter osv. Velkommen til at besøge vores fabrik og virksomhed.